Fan filter unit and method of manufacturing the unit, exposure device, and method of manufacturing device

WO02053267 Art A1 11. Juli 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02053267
Aktenzeichen: EP01272877
Anmeldetag: 26. Dezember 2001
Veröffentlichung: 11. Juli 2002
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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