Erzeugung von Barriereschichten durch Cvd

WO0205329 Art A2 17. Januar 2002

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0205329
Aktenzeichen: EP01959769
Anmeldetag: 29. Juni 2001
Veröffentlichung: 17. Januar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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