Cleaning gas and etching gas

WO0205338 Art A1 17. Januar 2002

Anmelder: RESEARCH INSTITUTE OF INNOVATIVE TECHNOLOGY FOR THE EARTH, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0205338
Aktenzeichen: EP01945796
Anmeldetag: 3. Juli 2001
Veröffentlichung: 17. Januar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/205C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: RESEARCH INSTITUTE OF INNOVATIVE TECHNOLOGY FOR THE EARTH
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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