Optische Hilfsstrukturen für ein Lithographieverfahren mit Zwei Masken

WO02054150 Art A2 11. Juli 2002

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02054150
Aktenzeichen: EP01986010
Anmeldetag: 13. November 2001
Veröffentlichung: 11. Juli 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

26.628 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von