Method and apparatus for microlithography

WO02057851 Art A1 25. Juli 2002

Anmelder: MICRONIC LASER SYSTEMS AB, Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇸🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02057851
Aktenzeichen: EP01273369
Anmeldetag: 11. Dezember 2001
Veröffentlichung: 25. Juli 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: MICRONIC LASER SYSTEMS AB
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land: 🇸🇪 Schweden

🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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