Plasma device and plasma generating method

WO02058123 Art A1 25. Juli 2002

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Ishii, Nobuo 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02058123
Aktenzeichen: EP02715788
Anmeldetag: 17. Januar 2002
Veröffentlichung: 25. Juli 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Ishii, Nobuo
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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