Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device

WO02059902 Art A1 1. August 2002

Anmelder: Hitachi, Ltd., Hitachi ULSI Systems Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02059902
Aktenzeichen: EP01978847
Anmeldetag: 22. Oktober 2001
Veröffentlichung: 1. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G11C29/00G01R31/28H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi, Ltd.
Hitachi ULSI Systems Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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