Method and apparatus for gas injection system with minimum particulate contamination

WO02061179 Art A1 8. August 2002

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02061179
Aktenzeichen: EP02704184
Anmeldetag: 22. Januar 2002
Veröffentlichung: 8. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00C23C16/00H01L21/00H05H1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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