Mask, optical characteristic measuring method, exposure apparatus adjusting method and exposure method, and device manufacturing method

WO02061505 Art A1 8. August 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02061505
Aktenzeichen: EP02710430
Anmeldetag: 31. Januar 2002
Veröffentlichung: 8. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027G03F7/20G01M11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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