Dual-Gate Prozess unter Benutzung einer Selbstassemblierten Molekularen Schicht
WO02061801
Art A2
8. August 2002
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02061801
- Aktenzeichen
- EP01992138
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2001
- Veröffentlichung
- 8. August 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L31/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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