Purge monitoring system for gas discharge laser

WO02061897 Art A1 8. August 2002

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02061897
Aktenzeichen: EP02709022
Anmeldetag: 14. Januar 2002
Veröffentlichung: 8. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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