Verfahren zur Herstellung einer Silizium-Oberfläche Optischer Qualität

WO02063355 Art A2 15. August 2002

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02063355
Aktenzeichen: EP02709220
Anmeldetag: 1. Februar 2002
Veröffentlichung: 15. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G02B6/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

26.628 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von