Verfahren zum Herstellen einer Kondensatoranordnung für eine Halbleiterspeichereinrichtung
WO02063679
Art A1
15. August 2002
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02063679
- Aktenzeichen
- EP01994607
- Anmeldetag
- 17. Dezember 2001
- Veröffentlichung
- 15. August 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/8246H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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