Semiconductor integrated circuit device and its manufacturing method

WO02063681 Art A1 15. August 2002

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02063681
Aktenzeichen: EP01273677
Anmeldetag: 30. November 2001
Veröffentlichung: 15. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L23/12H01L27/04H01L21/822H01L21/60H01L21/3205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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