Dry etching and mirror deposition processes for silicone elastomer

WO02066700 Art A1 29. August 2002

Anmelder: CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02066700
Aktenzeichen: EP02714894
Anmeldetag: 14. Februar 2002
Veröffentlichung: 29. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/32G03C5/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

1.994 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von