Resist composition and method of forming resist pattern

WO02067056 Art A1 29. August 2002

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02067056
Aktenzeichen: EP02712429
Anmeldetag: 19. Februar 2002
Veröffentlichung: 29. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/032G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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