System and method for utilization of waste heat of semiconductor equipment and heat exchanger used for utilization of waste heat of semiconductor equipment

WO02067308 Art A1 29. August 2002

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TAISEI CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02067308
Aktenzeichen: EP02712396
Anmeldetag: 15. Februar 2002
Veröffentlichung: 29. August 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304F28D7/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
TAISEI CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik

Vertreten von