Plasma processing system
WO02067311
Art A1
29. August 2002
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02067311
- Aktenzeichen
- EP02703868
- Anmeldetag
- 21. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 29. August 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3065C23C4/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.