Plating device and plating method
WO02068730
Art A1
6. September 2002
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02068730
- Aktenzeichen
- EP02700617
- Anmeldetag
- 20. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 6. September 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25D17/06C25D21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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