X-ray reflective mask, method of protecting the reflective mask, x-ray exposure device, and method of manufacturing semiconductor device

WO02069379 Art A1 6. September 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02069379
Aktenzeichen: EP02700783
Anmeldetag: 26. Februar 2002
Veröffentlichung: 6. September 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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