Reinigungsgas für Anlage zur Halbleiterherstellung

WO0207194 Art A2 24. Januar 2002

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0207194
Aktenzeichen: EP01950009
Anmeldetag: 17. Juli 2001
Veröffentlichung: 24. Januar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00C23C16/44B08B7/00C23F1/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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