Exposure method and exposure system, and device production method

WO02073670 Art A1 19. September 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02073670
Aktenzeichen: EP02702912
Anmeldetag: 12. März 2002
Veröffentlichung: 19. September 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G02B17/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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