Plasma processor and plasma processing method

WO02078072 Art A1 3. Oktober 2002

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Ishii, Nobuo, Ando, Makoto, Takahashi, Masaharu 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02078072
Aktenzeichen: EP02705364
Anmeldetag: 19. März 2002
Veröffentlichung: 3. Oktober 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Ishii, Nobuo
Ando, Makoto
Takahashi, Masaharu
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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