Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von einer Ultrareinen Miniumgebung durch Örtliche Luftströmungserhöhung

WO02080236 Art A2 10. Oktober 2002

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02080236
Aktenzeichen: EP02723565
Anmeldetag: 22. März 2002
Veröffentlichung: 10. Oktober 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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