Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der Strahlabrasterung in einem Ionenimplantierungsgerät

WO02082496 Art A2 17. Oktober 2002

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02082496
Aktenzeichen: EP02720138
Anmeldetag: 28. März 2002
Veröffentlichung: 17. Oktober 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01J37/304H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von