Verfahren zur Reduzierung von Abliegen in einem Grabenpolieren

WO02084718 Art A1 24. Oktober 2002

Anmelder: Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02084718
Aktenzeichen: EP02731317
Anmeldetag: 10. April 2002
Veröffentlichung: 24. Oktober 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/321

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cabot Microelectronics Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

290 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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