Zentrale Verbrennungsanlage zur Behandlung Pfc-Haltiger Abluft

WO02087732 Art A2 7. November 2002

Anmelder: Infineon Technologies AG, MESSER GRIESHEIM GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02087732
Aktenzeichen: EP02766607
Anmeldetag: 25. April 2002
Veröffentlichung: 7. November 2002
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/68B01D53/75B01D53/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Infineon Technologies AG
MESSER GRIESHEIM GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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