Photoacid generators, photoresist compositions containing the same and patterning method with the use of the compositions

WO0208833 Art A1 31. Januar 2002

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0208833
Aktenzeichen: EP01951966
Anmeldetag: 23. Juli 2001
Veröffentlichung: 31. Januar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C381/12C07D333/46C07D335/02H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NEC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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