Method and apparatus for characterization of ultrathin silicon oxide films using mirror-enhanced polarized reflectance fourier transform infrared spectroscopy

WO02088683 Art A1 7. November 2002

Anmelder: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF ILLINOIS 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02088683
Aktenzeichen: EP02766853
Anmeldetag: 29. April 2002
Veröffentlichung: 7. November 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/35H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF ILLINOIS
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Board of Trustees of the University of Illinois

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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