Duo-step plasma cleaning of chamber residues

WO02090615 Art A1 14. November 2002

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02090615
Aktenzeichen: EP02769333
Anmeldetag: 3. Mai 2002
Veröffentlichung: 14. November 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44H01J37/32B08B7/00H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von