Nicht-Ebene Fresnelsche Reflektoren-Arrays, Gussstrukturen und Gussmustern zur Vermeidung von Unterschneidungen
WO02091039
Art A1
14. November 2002
Anmelder: Honeywell, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02091039
- Aktenzeichen
- EP02734169
- Anmeldetag
- 2. Mai 2002
- Veröffentlichung
- 14. November 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B3/08B29D11/00B29C33/44F21V7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Honeywell, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
13.046 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.