Electron beam apparatus and device manufacturing method using the electron beam apparatus

WO02091421 Art A1 14. November 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION, EBARA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02091421
Aktenzeichen: EP02722904
Anmeldetag: 30. April 2002
Veröffentlichung: 14. November 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/244H01J37/06H01J37/28H01J37/29H01J9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
EBARA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Ebara

Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.

1.514 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von