High pressure wafer-less auto clean for etch applications

WO02091453 Art A1 14. November 2002

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02091453
Aktenzeichen: EP02769334
Anmeldetag: 3. Mai 2002
Veröffentlichung: 14. November 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3213H01J37/32B08B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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