Method for manufacturing hetero junction bipolar transistor
WO0209189
Art A1
31. Januar 2002
Anmelder: Korea Advanced Institute of Science and Technology, Telephus, Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0209189
- Aktenzeichen
- EP00955152
- Anmeldetag
- 29. August 2000
- Veröffentlichung
- 31. Januar 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/737
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Korea Advanced Institute of Science and Technology
Telephus, Inc. - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
KAIST
Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.
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