Photosensitive resin, photosensitive resin compositions containing the same and cured articles of the compositions

WO02094904 Art A1 28. November 2002

Anmelder: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02094904
Aktenzeichen: EP02726419
Anmeldetag: 15. Mai 2002
Veröffentlichung: 28. November 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C08G18/58C08G18/67C08F290/06G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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