Plasma treatment container internal member, and plasma treatment device having the plasma treatment container internal member
WO02097154
Art A1
5. Dezember 2002
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02097154
- Aktenzeichen
- EP02728083
- Anmeldetag
- 17. Mai 2002
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C4/02C23C26/00H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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