Oxidation Of Silicon Nitride Films in Semiconductor Devices
WO02099866
Art A2
12. Dezember 2002
Anmelder: International Business Machines Corporation, International Business Machines 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02099866
- Aktenzeichen
- EP02754738
- Anmeldetag
- 4. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/314
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- International Business Machines Corporation
International Business Machines - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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