Use of a gettering agent in a chemical mechanical polishing and rinsing operation and apparatus therefor

WO02100963 Art A1 19. Dezember 2002

Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02100963
Aktenzeichen: EP02728945
Anmeldetag: 2. April 2002
Veröffentlichung: 19. Dezember 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C09G1/02C11D3/00C23F1/18H01L21/306B24B37/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

1.708 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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