Vorrichtung und Verfahren zur Manipulation von Vesikeln

WO02101001 Art A1 19. Dezember 2002

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02101001
Aktenzeichen: EP02758217
Anmeldetag: 6. Juni 2002
Veröffentlichung: 19. Dezember 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C12M1/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.872 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Pharma & Biotechnologie

Vertreten von