Apparatus and methods for modeling process effects and imaging effects in scanning electron microscopy
WO02101602
Art A1
19. Dezember 2002
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02101602
- Aktenzeichen
- EP02744354
- Anmeldetag
- 13. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06F17/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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