Semiconductor device and method of producing the same

WO02101836 Art A1 19. Dezember 2002

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02101836
Aktenzeichen: EP01938606
Anmeldetag: 12. Juni 2001
Veröffentlichung: 19. Dezember 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/84G01L9/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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