Verfahren um Beschädigungen des Photolithographischen Ausrichtungsziels und die Cmp-Fehlerdetektierung mit der Identifizierung des Cmp-Werkzeugs in Verbindung zu Bringen
WO02103776
Art A2
27. Dezember 2002
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO02103776
- Aktenzeichen
- EP01972909
- Anmeldetag
- 18. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 27. Dezember 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
2.407 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.