Behandlungsvorrichtung und Reinigungsverfahren

WO0212587 Art A2 14. Februar 2002

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0212587
Aktenzeichen: EP01954494
Anmeldetag: 7. August 2001
Veröffentlichung: 14. Februar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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