Elektronenstrahl-Lithographievorrichtung unter Verwendung einer mit einem Löchermuster Versehenen Photokathode zur Erzeugung einer Transmissionsresonanz
WO0215223
Art A1
21. Februar 2002
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0215223
- Aktenzeichen
- EP01964099
- Anmeldetag
- 15. August 2001
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/073H01J1/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.