Verfahren zum Polieren einer Speicher- oder Festplatte mit einer Zusammensetzung, Welche einen Oxidierten Halid und eine Aminosäure Enthält

WO0220214 Art A2 14. März 2002

Anmelder: Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0220214
Aktenzeichen
EP01966363
Anmeldetag
29. August 2001
Veröffentlichung
14. März 2002
Rechtsraum
WO
IPC
B24B1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Cabot Microelectronics Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

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