Verfahren zur Initialisierung eines Kupfer Cmp-Prozesses

WO0220682 Art A2 14. März 2002

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0220682
Aktenzeichen
EP01966197
Anmeldetag
24. August 2001
Veröffentlichung
14. März 2002
Rechtsraum
WO
IPC
C09G1/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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