Method and apparatus for reducing refractory contamination in fused silica processes
WO0224586
Art A1
28. März 2002
Anmelder: Corning Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0224586
- Aktenzeichen
- EP01968805
- Anmeldetag
- 12. September 2001
- Veröffentlichung
- 28. März 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03B5/167C03B5/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Corning Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Corning
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Corning, New York. Corning ist spezialisiert auf Spezialglas, Keramik und optische Fasern für Displays, Telekommunikation, Automobiltechnik, Life Sciences und Umwelttechnik.
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