Method of manufacturing silicon monocrystal and device for manufacturing semiconductor monocrystal
WO0227077
Art A1
4. April 2002
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0227077
- Aktenzeichen
- EP01972516
- Anmeldetag
- 26. September 2001
- Veröffentlichung
- 4. April 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B15/20C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
1.022 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.