Resist pattern, process for producing the same, and utilization thereof

WO0227407 Art A1 4. April 2002

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0227407
Aktenzeichen: EP01972493
Anmeldetag: 26. September 2001
Veröffentlichung: 4. April 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/028H01L21/027H05K3/18H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von