Device and method for manufacturing semiconductor
WO0229864
Art A1
11. April 2002
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TAISEI CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0229864
- Aktenzeichen
- EP01974695
- Anmeldetag
- 4. Oktober 2001
- Veröffentlichung
- 11. April 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/027F24F7/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
TAISEI CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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